euv极紫外光刻技术-极紫外光刻机光源_枫梓知狮堂

euv极紫外光刻技术-极紫外光刻机光源

时间:2024-02-21 WAP浏览
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极紫外光刻(Extreme Ultra-violet),常称作EUV光刻,它以波长为10-14纳米极紫外光作为光源的光刻技术。具体为采用波长为13.4nm 的紫外线。极紫外线是指需要

首先声明,以下内容并非原创,首发于微信公众号:qbdp,作者:佛系的风,侵删。光刻机分为紫外光源(UV)…

1996年,一具甫抵桃园机场的深紫外光刻(DUV)步进机被特殊载具以每小时低于10公里波长193nm的光刻机居然

而光刻机的制造,们还落后很多很多! 而现世界上好的光刻机就是极紫外光刻机了,这里,科技风景线就给大家说一下这个芯片领域的巨头,一个名副其

于雷射光发生的机制较为复杂,以及对解像度有更髙的要求,使目前的EUV状况不尽如人意。先做个总结,堪用、但尚有很大的改善空间。

据国外媒体报道,在智能手机高端设备芯片的工艺提升到5nm之后,能生产5nm芯片的极紫外光刻机就显得异常重要,而作为目前全球能生产极紫外光刻机的

 
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